Influence of Colloidal Abrasive Size on Material Removal Rate and Surface Finish in SiO2 Chemical Mechanical Polishing
Keterangan Bibliografi
| Penerbit | : |
| Pengarang | : PASZKOWSKI, Andrew J et al |
| Kontributor | : |
| Kota terbit | : |
| Tahun terbit | : |
| ISBN | : |
| Subyek | : |
| Klasifikasi | : |
| Bahasa | : Indonesia |
| Edisi | : |
| Halaman | : |
Jenis Koleksi Pustaka
Artikel
Abstraksi
Tidak ada Abstraksi
Inventaris
| # | Inventaris | Dapat dipinjam | Status Ada |
| 1 | 363 | Ya |