A Chemical Reaction Model For Physical Vapor Deposition Of Compound Semiconductor Films

Keterangan Bibliografi
Penerbit :
Pengarang : AICHE JOURNAL
Kontributor :
Kota terbit :
Tahun terbit :
ISBN : 711-721
Subyek :
Klasifikasi : AAPG BULLETIN
Bahasa : English
Edisi : Vol.33 no.5 may 1987
Halaman : -
Lokasi :
Jenis Koleksi Pustaka

Majalah

Abstraksi

Tidak ada Abstraksi

Inventaris
# Inventaris Dapat dipinjam Status Ada
1 1002 Tidak