Reaction Kinetics and Reactor Modeling Of The Plasma Etching Of Silicon
Keterangan Bibliografi
| Penerbit | : |
| Pengarang | : AICHE JOURNAL |
| Kontributor | : |
| Kota terbit | : |
| Tahun terbit | : |
| ISBN | : 1187-1196 |
| Subyek | : |
| Klasifikasi | : AICHE JOURNAL |
| Bahasa | : English |
| Edisi | : Vol.33 no.7 july 1987 |
| Halaman | : - |
| Lokasi | : |
Jenis Koleksi Pustaka
Majalah
Abstraksi
Tidak ada Abstraksi
Inventaris
| # | Inventaris | Dapat dipinjam | Status Ada |
| 1 | 1055 | Tidak |